DOCUMENTOS IMPORTANTES
Sua pesquisa é muito importante. Agregue valor e promova sua carreira. O Núcleo de Inovação Tecnológica (NIT/UNIVASF) estará apoiando nesse processo. Para depositar sua Patente, observe as seguintes etapas e documentos:
ETAPAS:
1. Acesse a instrução normativa , que está em vigor desde o dia 09 de maio de 2018;
2. Não elabore sua patente sem, antes e durante, ler o modelo e seguir o guia de depósito de patentes disponível no website do INPI e também abaixo;
3. Você deverá abrir processo, através do SIPAC, e encaminhá-lo para o NIT. Este processo deve conter toda a documentação necessária para depósito de patente (formulário de depósito, relatório descritivo, resumo, reivindicações, desenhos - se houver);
4. Como a normativa somente prevê uma devolução para alterações, caso o novo documento não esteja de acordo com as recomendações ou com o guia de depósito, o processo será arquivado e deverá ser iniciado um novo processo. Sendo assim, esteja atento para que as alterações realizadas não façam surgir inserções que estejam contrárias ao guia de depósito.
DICA: realizar alterações com base no pedido de alterações, mas também no guia.
5. A Comissão de Avaliação deverá ser capaz de identificar, a partir do estado da técnica, os requisitos mínimos para constituir uma patente, tais como novidade absoluta, atividade inventiva e aplicação industrial, conforme guia de patentes do INPI;
6. O processo requer tempo, logo não deixe para última hora, ou seja, inicie o processo já consciente dos prazos descritos na instrução normativa 05/2018 ;
7. Não se esqueça de especificar se a sua patente trata-se de uma patente de invenção (PI) ou um modelo de utilidade (MU).
Documentos:
1. Instrução Normativa 05/2018
2. Guia de depósito de patentes (Fonte:INPI)
3. Modelo (Fonte:INPI)
4. Procuração - UNIVASF outorgante
5. Procuração - UNIVASF outorgado
6. Orientações para Busca de Anterioridade
7. Formulário anexo dos inventores